Три крунейших производителя полупроводниковых материалов - Intel, Samsung и Toshiba объявили об объеденении усилий с целью разработки решений производства микросхем по 10-нанометровой технологии.
К новому консорциуму уже в ближайшее время могут присоедениться еще около десятка компаний, работающих в полупроводниковой и смежных отраслях. Начальный фонд нового объединения составит порядка 10 млрд иен (около $122 млн), половину из которых предоставит Министерство экономики, торговли и промышленности Японии (METI).
Массовое производство микрочипов по 10-нанометровому техпроцессу начнется в 2016 году. Samsung и Toshiba предполагают использовать новую технологию при изготовлении микросхем флеш-памяти NAND, а Intel намерена использовать её при выпуске своих решений для рынка PC.
Более тонкий процесс даст возможность реализовать в новых микросхемах дополнительные функции, снизит потребление электроэннергии, и уменьшит стоимость конечного продукта.
Хотелось бы напомнить, что на данный момент современные решения от Intel производятся по 32-нанометровому техпроцессу, а к следующему году ожидается переход к выпуску 22-нанометровые изделий.
Источник: www.reuters.com
